美國喬治敦大學“新興技術觀察專案（ETO）”3日在其網站發佈一份報告說，2018年至2023年間，在全球發表的晶片設計和製造相關論文中，中國研究人員的論文數量遠超其他國家，中國在高被引論文方面同樣表現出色。

報告數據顯示，2018年至2023年間，全球發佈約47.5萬篇與晶片設計和製造相關的論文。其中34%的論文有來自中國機構的作者參與，15%的論文有美國作者參與，18%的論文有歐洲作者參與。總體來看，中國作為晶片設計和製造方面最大的研究論文產出國，領先於美國等其他高產國家。在全球晶片研究論文產出的前十名機構中，9家為中國機構。

在晶片研究高質量論文方面，中國同樣高居榜首。在所有晶片設計和製造相關的高被引論文中，50%的論文有來自中國機構的作者參與，有美國作者參與的論文占比為22%，有歐洲作者參與的論文占比為17%。在中國和美國之後，韓國和德國分列第三和第四，但與前兩名差距較大。晶片設計和製造相關論文中，年度被引用次數排前10%的論文可算作高被引論文。

“新興技術觀察專案”由喬治敦大學安全與新興技術中心主辦。英國《自然》雜誌網站3日援引“新興技術觀察專案”首席分析師紮卡裏·阿諾德的話報導說，儘管研究結果並不意味著中國目前在晶片領域處於領先地位，但“可以說，它向我們展示了未來的發展趨勢”。

喬治敦大學安全與新興技術中心數據研究分析師雅各布·費爾德戈伊斯對《自然》表示，在晶片研究的一些新興熱門領域，中國正在試驗許多下一代技術，“如果中國能夠將其中一些技術商業化，他們就不是在追趕，而是有可能實現跨越式發展”。

來源：新華網