8月17日消息，此前巴黎第一大學教授埃馬紐埃爾孔博公開發表署名文章指出，美歐聯合出臺對華光刻機出口禁令的操作，最後反而會讓美國和歐洲自己成為最大的輸家，根本達不到他們最初想要遏制中國半導體產業發展的目的。

孔博在文中明確點出，這一輪持續多年的技術博弈最終會產生兩個實打實的輸家。

第一個是歐洲，歐洲相關產業完全無條件跟著美方的管制規則走，主動放棄了原本占比極高的中國市場份額，後續相關產業鏈的營收和研發投入都會受到直接的負面影響。

第二個是美國，看似短期之內放緩了中國高端半導體技術的推進速度，實則用最粗暴的方式倒逼中國全資源投入自研高端核心技術，加速本土全產業鏈體系的補全完善。

從2019年開始，在美國的持續外交施壓下，荷蘭政府頂不住壓力，接連出臺管制規則，最終完全禁止向中國出口最頂尖的EUV光刻機，甚至連不少性能超出普通民用標準的高端DUV光刻機也限制對華出貨，ASML作為全球光刻機龍頭的中國業務版圖直接被砍掉了大半。

孔博教授在文章裏拋出了一個遠超出ASML單個企業個案的普遍性問題：動用國家力量強行限制一個工業大國獲得尖端技術，最終到底是會削弱這個國家的創新能力，還是反而會徹底激發它的內生創新動力，逼出原本幾十年都未必能落地的技術成果？過往的無數產業發展經驗，其實早已經給出了明確的答案。

現實情況也確實印證了這個疑問，在層層加碼的外部技術限制之下，中國整個半導體行業正集中全部資源攻堅，一步步打破海外廠商維持了幾十年的光刻機壟斷格局，現在已經拿出了不少階段性的技術成果。

現在中國雖然沒法買到最頂尖的EUV光刻機，但是依然可以通過增加DUV光刻機多重曝光工藝的次數，來製造制程指標接近頂尖水準的先進晶片，唯一的代價是生產良率會比用EUV工藝低不少。

既然進口海外頂尖光刻機的路徑已經完全被堵死，留給中國產業界的路其實只剩下一條，就是不計成本投入資源研發，自己造出完全自主可控的最先進光刻機。

之前因為ASML的產品可以自由進入中國市場，就算本土光刻機企業研發出了可用的產品，也很難找到足夠多的願意買單的下游客戶，前期研發投入的風險極高，很難形成正向迴圈，現在整個行業的生存環境已經完全反轉。

現在全球最強大的海外光刻機競爭者已經被官方禁令擋在中國市場大門之外，本土光刻機研發企業面對的是一個幾乎“被鎖定”的體量巨大的國內需求市場，下游晶片廠商哪怕暫時承擔更高的採購成本，也願意優先支持國產設備落地迭代。

換個角度來看，這些海外強加的技術出口限制，本質上等於主動給中國的新興半導體設備產業提供了最高等級的貿易保護，只不過這種保護不是本國政府主動出臺政策實施的，完全是美歐的管制措施硬生生倒逼出來的。

孔博的文章裏也給出了相對客觀的階段性評估，當然從短期維度來看，現在中國產業對全球DUV光刻機市場的衝擊還非常有限，產能爬坡需要時間，預計今年國內僅能交付幾臺量產的國產DUV光刻機，到2027年全年交付量也不過二十臺左右。

作為對比，僅2025年一年，ASML就向全球客戶交付了131臺DUV設備，雙方的產能規模目前還存在非常大的差距。

不少行業觀察人士也順著這個邏輯推演，如果未來中國真的完全突破了高端光刻機的技術瓶頸，實現全產業鏈自主可控，回頭看甚至可以說要間接感謝特朗普政府當年推出的極端出口限制政策，正是這套完全不講理的封鎖組合拳，徹底打斷了國內不少企業之前依賴進口技術的幻想，硬生生把中國半導體產業逼上了全面自主創新的快車道。

來源：中國快科技