11 月 10 日消息，韓媒《ChosunBiz》當地時間本月 8 日報道稱，該國兩大半導體企業三星電子、SK 海力士正競相採購 ASML 的 EUV 光刻機，相關投資額均在 10~20 萬億韓元（IT之家注：現匯率約合 491.3 ~ 982.6 億元人民幣）區間。

作為這波 AI 半導體浪潮中受益最為明顯的那批企業，三星電子、SK 海力士都在努力提升晶圓廠產能，而 EUV 機台是產能增長的關鍵要素。

SK 海力士今年 3 月確認將於 2026~2027 兩年向 ASML 採購 11.95 萬億韓元的 EUV 光刻機，其龍仁 Y1 晶圓廠預計 2027 年 2 月啟用首個無塵室；另一方面，三星電子承諾 2028 年將 High NA EUV 用於 DRAM 量產，其平澤 P5 預計 2027 年中導入設備。

兩家企業均擁有龐大的 EUV 設備需求，而半導體設備的交付週期正普遍延長，提前下單有助於確保產能按規劃上線。

來源：中國IT之家