11月26日消息，上海芯上微裝科技股份有限公司宣佈，公司自主研發的首臺350nm步進光刻機（AST6200 ）正式完成出廠調試與驗收，啟程發往客戶現場。

芯上微裝表示，這標誌著我國在高端半導體光刻設備領域再次實現關鍵突破。

據介紹，AST6200光刻機是芯上微裝打造的全自主可控的步進式光刻設備，專為功率、射頻、光電子及Micro LED等場景量身定制。

其高解析度成像滿足先進工藝需求，搭載大數值孔徑投影物鏡，結合多種照明模式與可變光瞳技術，實現350nm高解析度，滿足當前主流化合物半導體晶片的光刻工藝要求。

高精度套刻配置高精度對準系統，實現正面套刻80nm，背面套刻500nm，確保多層圖形精准套刻，提升器件良率。

不僅如此，AST6200還搭載芯上微裝自主研發的全棧式軟體控制系統，從底層驅動到上層工藝管理，實現完全自主主權。

公開資料顯示，芯上微裝成立於2025年02月，是一家專注於高端半導體裝備研發、生產和服務的創新型科技企業，目前主力產品為晶圓級先進封裝光刻機、鐳射退火設備和前道晶圓缺陷檢測設備。

來源：中國快科技